Asml lager nye euv-maskiner for fremtidige 7nm + og 5nm noder

Bak produsenter som TSMC, GlobalFoundries, Samsung og Intel, er det selskaper som ASML, som med sine maskiner og teknologier hjelper til med å produsere banebrytende chips. I dag ser det ut til at ASML har en ny 410W EUV-maskin i drift, som skal tjene til masseprodusering av CPUer og GPUer på 7nm og mindre.

ASML produserer EUV (Extreme UltraViolet) maskiner som vil være avgjørende for fremtidige 7nm +, 5nm og mindre noder

7nm kommer, og det er et viktig sprang som vil påvirke ytelsen til prosessorer og grafikkort, blant andre segmenter, men utover det ønsker silisiumprodusenter å fortsette å forbedre node-produksjonsprosessen. TSMC har allerede planer om å implementere EUV (Extreme UltraViolet) teknologi i de neste 7nm + noder, noe som vil bidra til å forbedre produksjonselementene og forbedre tettheten med et større antall transistorer.

Det er her EUV- maskiner kommer inn og er kritiske. I dag er ASML- maskiner i stand til å levere 250W lys, men maskiner med høyere kraft er nødvendige for å lage EUV-silisium (chips) med en raskere hastighet. Kildekraften til disse maskinene er en indikasjon på antallet fotoner som kan bli utsatt for silisium i løpet av en gitt tid, noe som betyr at enheter med høyere kraft vil kunne fullføre arbeidet med en silisiumskive med en raskere hastighet og akselerere produksjon.

Spectrum har rapportert at ASML har hentet en maskin med en 410W EUV strømkilde som kjører i sine laboratorier, og fungerer som den potensielle basen for selskapets neste generasjons EUV-maskiner. For øyeblikket er ikke 410W-maskinen din i stand til å produsere brikker ennå, selv om det absolutt er et viktig skritt i denne teknologien, som vil hjelpe store silisiumprodusenter å forbedre produksjonen.

EUV- teknologi vil ha en mye større rolle å spille i fremtidige 5nm eller mindre prosessnoder der de vil være kritiske.